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深圳深光达科技有限公司
我们注于等离子(PLASMA)清洗工艺技术和相关装备的研发生产,核心技术源自欧美二十年等离子体行业经验。公司核心团队来自中科院等离子体物理研究所、德国Diener、中国科学技术大学、北京大学等国内科研机构,其开发的等离子清洗装备已广泛应用于高校、半导体、汽车、电子行业、3C行业、印刷行业生物等行业域。深光达科技成立至已为清华大学、西安交通大学、比亚迪、兰州大学、深圳大学、香港大学、提供过等离子处理设备和解决方案,我们将不断为材料表面处理开发创新方案,致力于为用户提供等离子表面处理与检测整体解决方...
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等离子技术解决方案

Plasma technology solutions

等离子活化

Plasma Activation

等离子刻蚀

Plasma Etching

等离子清洗

Plasma Cleaning

等离子涂层

Plasma Coating
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  • 大气等离子清洗机处理效果不佳如何排查,气源与喷头工况异常处理对策

    大气等离子清洗机是工业表面处理工序中的常用设备,主要用于材料表面去污、活化、改性等预处理作业。设备长期连续运行后,受环境、耗材损耗、管路工况、操作规范等多重因素影响,容易出现表面处理不均匀、去污不达标、活化效果偏弱等问题,直接影响后续粘接、喷涂、覆膜等工序的作业质量。多数效果异常问题并非设备本体故障,而是气源、喷头等核心工况失衡或日常运维疏漏导致。本文结合现场实操经验,梳理设备处理效果不佳的完整排查流程,针对性给出气源与喷头工况异常的处理方案,为设备稳定运行提供实操参考。一、...

    2026-09-02
  • 调试真空等离子去胶机要注意哪些细节

    真空等离子去胶机调试全流程详解一、前期准备阶段环境适配性确认:将设备置于洁净度达ISOClass5的无尘室内,温湿度控制在22±2℃/45±5%RH。检查冷却水循环系统压力是否稳定在0.3-0.5MPa区间,水温不超过30℃。电源需专线供电,电压波动范围≤±5%,接地电阻腔体初始化检测:开启设备后执行空载运行程序,观察极限真空度能否达到8×10⁻³Pa以下。分子泵启动时注意听运转声音是否平稳,无异常振动。手动测试气动阀门开关响应速度,...

    2026-08-20
  • 进口等离子清洗机真空泵与流量计故障怎么办?气路系统维护与耗材更换操作指南

    进口等离子清洗机是精密表面处理的常用设备,依靠真空环境与稳定气路供给完成等离子活化、清洗、改性等工艺。真空泵与流量计作为设备真空系统、气路系统的核心部件,运行中易受杂质堆积、管路泄漏、耗材老化等问题影响,出现运行异常,直接造成工艺效果波动、设备停机。做好两类核心部件故障排查,落实气路常态化维护与耗材定期更换,是保障设备稳定运行、降低故障概率的关键。本文结合设备实操经验,梳理完整的故障处理与维护更换流程。一、真空泵常见故障与排查处理真空泵为等离子清洗腔体提供真空运行环境,长期连...

    2026-08-19
  • 进口等离子清洗机日常维护保养与石英腔体更换及真空泵油维护操作规范全面汇总

    进口等离子清洗机是精密工业表面处理的常用设备,广泛应用于精密电子、半导体、光学器件等行业的表面活化、清洗、刻蚀工序。设备的稳定运行依赖常态化的维护管理与标准化的配件更换、耗材保养操作。为规范设备使用流程,延长设备使用寿命,降低故障停机概率,保障生产作业连续性,现将设备日常维护保养、石英腔体更换、真空泵油维护的全套操作规范进行系统汇总,为设备运维工作提供标准化参考依据。一、设备日常维护保养规范日常维护是等离子清洗机稳定运行的基础,需落实每日、每周、每月分级保养制度,全程遵循断电...

    2026-08-17
  • 进口等离子清洗机如何满足CE与半导体行业洁净标准?

    等离子清洗机作为半导体晶圆制程、芯片封装、载板活化环节的核心工艺设备,既要适配欧盟市场准入的CE法规约束,也要匹配半导体产业链严苛的无尘、低杂质、低静电运行规范。进口机型在前期结构设计、零部件选型、安全回路搭建、腔体洁净构造、气路真空管路布局等环节同步落地两类规范,通过前置化合规设计、分段式洁净管控、全链路安全冗余设计,完成法规认证与工业制程洁净要求的双向落地,适配海内外半导体工厂量产使用需求。CE认证并非单一标识粘贴,而是围绕机械安全、电气防护、电磁兼容、有害物质管控多类欧...

    2026-08-12
  • 真空等离子体清洗设备日常维护要点:电极接触面打磨与腔体防污染操作规范

    真空等离子体清洗设备作为一种精密的表面处理设备,在半导体、电子、光学、生物医药等领域应用广泛。它利用真空环境下产生的等离子体对材料表面进行清洗、活化、刻蚀等处理,能够有效去除表面的有机污染物,提高表面能,改善粘接、焊接、镀膜等工艺的效果。然而,等离子体清洗设备的性能稳定性和处理效果,与日常维护工作密切相关。特别是电极接触面的状态和腔体的清洁程度,直接影响等离子体的产生和工艺效果。本文围绕电极接触面打磨和腔体防污染这两个核心维护要点,介绍真空等离子体清洗设备的日常维护规范和注意...

    2026-07-14
  • 深光达:常压等离子清洗机的技术先锋,2026年实力之选

    在智能制造与精密加工领域,表面处理技术的革新正推动着产业升级。常压等离子清洗机凭借其环保、高效、非损伤性的优势,成为电子、半导体、医疗、包装等行业至关重要的工艺设备。面对多样化的应用场景与严苛的工艺需求,如何选择技术可靠、服务完整的设备厂商成为企业关注的焦点。本文盘点2026年常压等离子清洗机领域的有名品牌与厂家,其中深圳深光达科技有限公司以创新技术与定制化解决方案脱颖而出,值得重点考察。一、深圳深光达科技有限公司:技术主导,智造先锋深圳深光达科技有限公司深耕等离子技术十余年...

    2026-07-14
  • 源头厂家直供:射频等离子清洗机如何实现半导体封装的微纳米级清洁?

    半导体封装环节对清洁度的要求正变得日益严苛。引线键合、芯片贴装、底部填充等工艺步骤中,任何微量的有机污染物、氧化物或颗粒残留,都可能直接影响键合强度、封装良率乃至器件的长期可靠性。射频等离子清洗技术作为一种干法清洗手段,正在成为解决这一问题的关键工艺路径。一、微纳米级清洁的技术原理射频等离子清洗机的工作机制建立在物理与化学的协同作用之上。设备利用真空泵将工作室抽至一定真空度后,通入工艺气体(如氧气、氩气、氮气等),在高频发生器作用下于阳极和阴极之间形成高频交变电场,将气体电离...

    2026-07-14
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