2025-1215
等离子刻蚀机作为半导体、微电子及先进材料加工的核心设备，其选购需综合考量技术性能、工艺兼容性、扩展能力及服务支持等多维度因素。以下从关键选购要点展开详述：一、技术原理与机型选择等离子刻蚀机通过射频或微波能量电离气体产生等离子体，利用物理轰击与化学反应协同作用实现材料去除。主流机型包括：-反应离子刻蚀(RIE)：依赖电容耦合等离子体，适合基础材料刻蚀，成本较低但均匀性有限。-电感耦合等离子体(ICP)：通过高频电磁场生成高密度等离子体，兼具高刻蚀速率(可达1μm/min)与低损...
查看更多2025-1212
在当今快速发展的工业领域，材料表面处理技术的重要性日益凸显。大气等离子清洗机作为一种表面处理设备，凭借其高效、环保、精准的特点，在电子、汽车和医疗行业发挥着重要的作用。它不仅能够显著提升产品质量，还能优化生产流程，降低生产成本，成为现代制造业中的重要工具。一、工作原理大气等离子清洗机利用等离子体的高能量特性，通过气体放电产生高活性的等离子体，从而对材料表面进行物理或化学作用。等离子体中的自由电子、离子和自由基等活性粒子能够与材料表面发生相互作用，实现表面清洁、活化、蚀刻等多种...
查看更多2025-1120
真空等离子去胶机作为一种高效、环保且精确的设备，能够有效去除光刻胶，同时避免对基底材料造成损伤。然而，面对市场上众多的真空等离子去胶机品牌和型号，如何选择合适的设备并正确使用，是每个用户都需要考虑的问题。以下是一份等离子去胶机的选型与使用指南，帮助用户更好地了解和应用这一设备。一、选型要点(一)工艺需求匹配在选择等离子去胶机时，首先要明确自己的工艺需求。不同的应用场景对去胶机的要求不同。例如，在半导体制造中，可能需要去除高分辨率光刻胶，这就要求设备具有高精度和高均匀性的等离子...
查看更多2025-1118
真空等离子去胶机在半导体封装、微电子制造等领域应用广泛，其故障直接影响生产效率与产品质量。以下是基于设备原理及实践经验总结的常见故障解决方案：一、真空系统故障-真空度不足或无法抽真空-密封件老化：检查腔门密封圈、管道接口处的O型圈是否磨损，及时更换变形或开裂的密封件。-真空泵异常：观察泵组运行声音及油位，若机械泵油乳化或分子泵报错，需更换润滑油或维修泵组。-气路泄漏：使用氦质谱检漏仪检测气体管路，重点排查减压阀、流量计连接处，紧固松动接头或更换破损管路。-真空报警误触发-压力...
查看更多2025-1117
光刻胶的去除是半导体制造过程中一个至关重要的环节。光刻胶在光刻工艺中用于定义微小的电路图案，但在后续的蚀刻或离子注入等工艺完成后，需要将其清除，以避免残留物对芯片性能产生负面影响。真空等离子去胶机凭借其高效、清洁和精准的特点，已成为半导体行业中的设备。一、高效去除光刻胶，保障工艺连续性真空等离子去胶机的核心优势在于其能够高效、地去除光刻胶。在半导体制造中，光刻胶的残留可能导致电路短路、漏电或其他性能问题，因此光刻胶的去除是确保芯片质量的关键。等离子去胶机通过等离子体的化学和物...
查看更多2025-1111
在半导体制造和微电子加工领域，去除光刻胶是工艺流程中的关键步骤之一。光刻胶在完成其保护和图案转移的使命后，必须被清除，以确保后续工艺的顺利进行。传统的去胶方法，如湿法化学清洗和机械擦洗，不仅效率低下，还可能对基底造成损伤。真空等离子去胶机的出现，为这一问题提供了高效、环保且精准的解决方案。它通过等离子体技术，在真空环境中实现对光刻胶的快速去除，同时保护基底材料不受损害。一、工作原理真空等离子去胶机的核心在于等离子体技术的应用。等离子体是一种高度电离的气体状态，其中包含大量的自...
查看更多2025-1025
真空等离子去胶机作为半导体制造、微电子封装和精密材料处理中的关键设备，其稳定性和工艺重复性直接关系到产品的良率与成本。为确保设备长期处于最佳工作状态，延长其使用寿命，并保证工艺结果的稳定可靠，实施一套科学、严谨的养护体系至关重要。以下将从日常、定期、关键部件及长期停用四个方面，详细阐述真空等离子去胶机的养护方式。一、日常基础养护：防患于未然日常养护是维持设备稳定性的第一道防线，主要由设备操作人员在生产间隙完成。1.清洁与目视检查：设备外部：每日使用前后，用无尘布蘸取少量异丙醇...
查看更多2025-1023
大气等离子清洗机作为一种高效、环保的表面处理设备，广泛应用于电子、半导体、材料科学和生物医学等领域。然而，在使用过程中，可能会遇到处理不均、等离子体不稳定以及设备维护故障等问题。这些问题若不及时解决，可能会影响清洗效果和设备的使用寿命。以下是一些常见问题的排查与解决技巧。一、处理不均：确保清洗效果的一致性处理不均是指在清洗过程中，部分区域的清洗效果不理想，导致表面处理不均匀。这可能是由多种因素引起的，包括气体流量不均、电极位置不当或样品放置不规范等。（一）排查处理不均的原因气...
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